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用248nm光刻机制作150nm﹢GaAs﹢PHEMT器件性能及可靠性评估

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资 源 简 介

  • 用248nm光刻机制作150nm﹢GaAs﹢PHEMT器件性能及可靠性评估,资料为PDF文档格式.
  • 本文档关键词:器件,性能,评估,机制,光刻
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